Auftrag vergeben: WET Clean Equipment, Dresden
Zusammenfassung
Auftrag zur Lieferung von WET Clean Equipment (Single Wafer Clean Tool) für die Reinigung und Nassätzung von 300 mm Wafern mit flüssigen Chemikalien im Single-Wafer-Modus. Das System soll mindestens zwei hardwareseitig getrennte Protokollzonen gleichzeitig bearbeiten können.
CPV-Codes
Quelle
vergabe.fraunhofer.deMehr Details mit Leto freischalten
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